為什么選擇PMS：

· SEMI&FPD薄膜沉積工藝中，以高壓噴射HOT N2的方式幫助輸送管路內的副產(chǎn)物及未反應氣體，防止管道內堵塞的發(fā)生；
· 稀釋: 利用惰性氣體稀釋?zhuān)泻透碑a(chǎn)物，并延遲管道內粉塵的堆積；
· 利用熱能: 加熱后的氮氣可以通過(guò)激活熱能促進(jìn)副產(chǎn)物的分子活動(dòng)，并防止粉塵的凝固；
· 輸送: 采用專(zhuān)業(yè)的空氣動(dòng)力學(xué)原理，通過(guò)高壓噴射HOT N2加速了副產(chǎn)物在管道內的流速，尤其提高了沉積高危區“管道壁面”上的產(chǎn)物流速；
· 市場(chǎng)與需求：半導體與平板顯示行業(yè)FAB廠(chǎng)務(wù)，CVD、ETCH、ALD等沉積設備商，2000sets per year；